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產(chǎn)品型號
MSC系列 -
廠商性質(zhì)
生產(chǎn)廠家 -
更新時(shí)間
2026-03-07 -
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1806
產(chǎn)品描述
勻膠機(jī)設(shè)備簡介: 桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī),用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝,將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)樣品。
產(chǎn)品分類
產(chǎn)品型號
MSC系列廠商性質(zhì)
生產(chǎn)廠家更新時(shí)間
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1806產(chǎn)品描述
勻膠機(jī)設(shè)備簡介: 桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī),用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝,將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)樣品。
產(chǎn)品型號
MSC-75T廠商性質(zhì)
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1565產(chǎn)品描述
桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)應(yīng)用:在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。應(yīng)用:在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。
產(chǎn)品型號
MSD-150D廠商性質(zhì)
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1702產(chǎn)品描述
桌上型半自動(dòng)顯影機(jī)MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動(dòng)擺臂單元、 以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成,整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu),外表為鏡面不銹鋼,無塵且不吸附顆粒,工作方式為手動(dòng)上下片,自動(dòng)完成顯影工藝。 顯影單元基片采用真空吸附加四周擋板固定方式,采用進(jìn)口伺服電機(jī),保證轉(zhuǎn)速、加速度、控制精度高,重復(fù)性好;供液系統(tǒng)采用廠務(wù)或者壓力容器直接供液方式。
產(chǎn)品型號
廠商性質(zhì)
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1822產(chǎn)品描述
全柜式涂膠顯影機(jī)該設(shè)備用于 8 寸晶圓的涂膠、顯影、烘烤工藝; 設(shè)備包括主要的工藝模塊:涂膠模塊 COT,顯影模塊 DEV、熱 盤 HP 等(各腔體間有擋板隔開)等,按需設(shè)計(jì),多樣化選擇; 外觀材料可選:PP,鏡面不銹鋼等; 滴膠方式:手動(dòng)、自動(dòng)多樣化選擇;
產(chǎn)品型號
MSC-200T-D廠商性質(zhì)
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1922產(chǎn)品描述
針筒式旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)MSC-200T-D桌上型半自動(dòng)旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝,將光刻膠溶液自動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰、光柵、ITO、掩模版等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于6、8寸晶圓及方形樣品。將基材涂上一層特定的光刻膠、感光涂料或油墨, 取出后在進(jìn)行后道烘干工藝。
地址:安徽省合肥市蜀山區(qū)湯口路香馨產(chǎn)業(yè)園
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